利用進(jìn)口電化學(xué)工作站常見的分析方法有哪些
點(diǎn)擊次數(shù):1197 更新時(shí)間:2020-08-24
進(jìn)口電化學(xué)工作站是一款由單片機(jī)控制的具有16位總線寬度及18位AD轉(zhuǎn)換精度的工作站。該儀器擁有40多種電化學(xué)與電分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)方法。使用簡單方便,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示,便于操作者直觀、方便的觀測(cè)實(shí)驗(yàn)狀態(tài)。同時(shí),該儀器適合兩電極、三電極及四電極工作模式??蓾M足化學(xué)、材料、能源、環(huán)境、醫(yī)學(xué)等眾多領(lǐng)域的科研及教學(xué)工作。該儀器可實(shí)現(xiàn)電位(控制)、電流控制,開路電壓測(cè)量、各種伏安分析和極譜分析等電化學(xué)研究和分析方法。
進(jìn)口電化學(xué)工作站是專為能源樣品測(cè)試而打造的多樣品阻抗測(cè)試系統(tǒng)。8個(gè)通道進(jìn)行序列測(cè)試,尤其適合樣品量大的情況;連續(xù)測(cè)試,無需值守,充分提高用戶的時(shí)間利用率。
該系統(tǒng)可與電池循環(huán)充放電設(shè)備聯(lián)用,在對(duì)電池充放電的同時(shí),進(jìn)行阻抗序列測(cè)試,也適合超級(jí)電容器、燃料電池等樣品的阻抗測(cè)試。
利用進(jìn)口電化學(xué)工作站,常見的分析方法有:
(1)線性極化(線性掃描法)及用來研究添加劑對(duì)鍍層質(zhì)量的影響,比如當(dāng)極化加強(qiáng)時(shí),鍍層一般可以得到細(xì)化。
?。?)循環(huán)伏安法,可以用來研究合金或多組分電鍍時(shí),如何控制不同成分的沉積量。通過不同的添加劑或者調(diào)整添加劑的用量,在循環(huán)伏安曲線上可以看到氧化還原電位的移動(dòng)(還原電位即為沉積電位)。
(3)交流阻抗/微分電容曲線法,通過分析電容變化曲線,了解添加劑對(duì)吸附大小的影響,吸附越大時(shí),鍍層的平整性就越好。微分電容曲線在電化學(xué)工作站中由電位掃描交流阻抗方法測(cè)量得到。