方波脈沖
介紹
Gamry Framework™軟件中可用的許多電化學(xué)技術(shù),包括方波伏安法,一種脈沖伏安法。本應(yīng)用報告介紹什么是方波伏安法以及所涉及的參數(shù)。
方波伏安法背后的理論
我們從施加一系列階梯電位信號開始。階梯波形上還添加了一個方波,因此隨著電位在每一步中突然階躍,方波與該階躍疊加。在步驟的一半,方波改變極性。這種重復(fù)的階梯加方波信號產(chǎn)生出具有特點的電壓序列施加在樣品上,如圖1所示。
記錄對電極和工作電極之間的電流隨時間的變化。測量工作電極參比和參比電極之間的電壓。
圖1 方波伏安法中電壓如何隨時間變化的示意圖
一個方波周期和階躍的時間τ
方波周期和單步電壓階躍時間都需要時間τ。周期時間的倒數(shù)就是頻率1/τ。
掃速
掃速反過來取決于每步的時間,τ:
在掃描期間,在正向脈沖和反向脈沖結(jié)束時記錄電流,這意味著每個周期對其采樣兩次。脈沖結(jié)束時采樣可以避免涉及充電電流。
方波伏安實驗中使用的頻率f通常約為1至125Hz。如此高的f意味著方波伏安法比其他脈沖實驗快得多。
實驗參數(shù)設(shè)置
以下是Gamry Framework™軟件提供的參數(shù)設(shè)置窗口示例:
圖2 Gamry Framework™方波脈沖設(shè)置頁面。采用模式有3中選擇,包含Surface模式
Surface模式
在數(shù)字掃描中,標準慣例是在每個步驟的后獲取一個數(shù)據(jù)點。Gamry將此方法稱為Fast模式。這種采樣方法可以區(qū)分任何電容性電流或表面結(jié)合反應(yīng)。在階躍初始時任何由電容充電產(chǎn)生或僅限電極表面法拉第電流都會衰減,不會影響測試電流。
另一種采樣模式是Noise Reject,也就是每個階躍后20%的平均值。與Fast模式相比,Noise Reject提高了信噪比。同時仍主要捕獲的是擴散過程的電流。
對于Surface模式,Gamry采用*的采樣模式來消除階躍和斜坡之間的差異。在Surface模式下,對整個階躍過程都進行數(shù)據(jù)采集,然后取平均值。這樣可以捕獲電容充電電流和表面發(fā)生反應(yīng)的法拉第電流。(可以參考應(yīng)用報告“使用數(shù)字階梯伏安法測量表面相關(guān)電流”)。其他電化學(xué)工作站生產(chǎn)商均未提供Surface模式。
對于涉及表面反應(yīng)的方波伏安測量,我們建議在掃描過程中選用Surface模式。
繪圖
軟件將兩個電流值相減,得到的差值(Idiff)與掃描電位(Vstep)繪制成圖。結(jié)果是該方法給出了由法拉第過程引起的峰值。峰高于該物質(zhì)的濃度直接相關(guān)。
舉例
緩沖溶液中的鎘
我們以測量溶解在醋酸鹽緩沖溶液中的Cd2+(6ppm)為例。用Gamry電化學(xué)工作站以τ = 0.1 s(也就是10Hz頻率)進行方波伏安法測試。整個測試僅需6.1s(0.1s采點61個)。數(shù)據(jù)以Idiff(正向和方向電流之差)與Vstep的關(guān)系表示在圖3中。
圖3 6ppm的Cd2+在醋酸鹽緩沖溶液中的方波伏安圖,τ = 0.1 s
如果我們改變Cd2+濃度,則峰高與[Cd2+]成正比。在溶液中添加另一種離子(比如Pb2+),曲線則會在其他電位上出現(xiàn)第二個峰。
痕量銅的定量測試
此例中,用方波伏安法測試了酸性水溶液中不同濃度(百萬分之幾范圍)銅離子以及空白實驗。這一系列實驗(參見表1)顯示了不同濃度銅離子如何與峰高直接相關(guān)。
圖4 不同濃度銅離子的方波伏安圖,灰線是空白實驗
表1 方波伏安法測定銅離子濃度及其相應(yīng)的峰高,R2=0.9755
Cu Concentration | Peak height (µA) | |
Scan 1 | 88 | 0.408 |
Scan 2 | 25 | 0.7536 |
Scan 3 | 50 | 1.205 |
Scan 4 | 77 | 1.432 |
Scan 5 | 100 | 1.738 |
三種采樣模式的比較
為了展示Gamry電化學(xué)工作站Surface模式的靈敏度,圖5展示了使用生物傳感器分別在三種采樣模式(Fast,Noise Reject和Surface)記錄的扣除背景的掃描曲線。
圖5 在生物傳感器上以三種采樣模式記錄的100Hz采樣頻率下的方波伏安曲線
藍線是Fast模式,紅線是Noise Reject模式,紫線是Surface模式
顯然,測量表面相關(guān)反應(yīng),在Surface模式下的信號更好。
結(jié)論
方波伏安法是一種快速定性和定量分析的方法,即使是濃度很低的溶液。